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IC光刻設備、FPD曝光設備
- 分類：IC裝備及紅外光學
- 發布時間：2020-05-25 00:00:00
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概要:匯博光學制造的精密紫外光學薄膜器件均采用高能離子輔助沉積工藝，可以耐受400℃以上的高溫且性能穩定。
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IC半導體光刻設備及FPD平面顯示器曝光設備中使用的精密光學薄膜器件對光學鏡面精度和光譜反射效率、耐用性有極苛刻的使用要求。光源長時間不間斷工作，紫外線的輻射損傷對反射鏡的膜層壽命要求高。匯博光學制造的精密紫外光學薄膜器件均采用高能離子輔助沉積工藝，可以耐受400℃以上的高溫且性能穩定。
產品類型：大尺寸橢球反射鏡、45°平面反射鏡、介質膜反射鏡、鋁增強反射鏡、365nm通帶濾光片、截止濾光片、分色鏡、光配向反射鏡。
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